超纯水在半导体制造中的具体用途

发布日期:2024-07-19 15:26:11    文章编辑:反渗透纯水设备|纯水设备|超纯水设备|去离子设备-东莞市杰邦水处理有限公司    阅读量: 515

超纯水是指经过特殊处理,达到非常高纯度的水。它通常被用于需要非常低杂质含量的科学实验、半导体制造、制药和电力行业等领域。随着半导体器件尺寸的不断缩小,对超纯水的纯度要求也日益提高。微小的杂质可能会影响器件的性能和可靠性。因此,在半导体制造过程中所使用的超纯水必须经过严格的净化处理,以确保其电阻率(或者电导率)达到18.2 MΩ·cm以上,并且电导率低于0.055 μS/cm。此外,生产和使用超纯水还须遵循严格的控制程序,以防止二次污染。以保证最终产品的质量和性能,以下是超纯水在半导体制造中的一些具体用途。


1.清洗:在半导体制造过程中,需要多次清洗晶圆(硅片),以去除其表面的微粒、有机物、金属离子和其他污染物。超纯水因为其杂质含量极低,是清洗的理想介质,能够有效去除这些污染物,以防止它们对器件性能产生影响。

2.湿法蚀刻:在湿法蚀刻过程中,超纯水作为稀释剂或反应介质,用于控制蚀刻速率和选择性,确保蚀刻过程的均匀性和精确性。

3.化学机械抛光:化学机械抛光过程中,使用超纯水来稀释抛光剂,并清洗晶圆表面,以去除抛光过程中产生的磨料和污染物。

4.离子注入:在进行离子注入时,需要使用超纯水清洗晶圆,以去除注入过程中产生的残留物,确保注入的均匀和准确。

5.光刻:光刻工艺中使用超纯水清洗光刻胶和晶圆表面,去除残留的光刻胶和污染物,以确保光刻图案清晰和精确。

6.湿法检测:湿法检测使用超纯水来测试晶圆的电性能,以确保其符合设计规格。

7.湿法去膜:在某些工艺步骤中,需要除去晶圆表面的一些薄膜,采用湿法去膜的方法,使用超纯水作为去膜剂,以去除这些薄膜而不引入新的污染物。

8.湿法清洗设备:是指在半导体制造设备的维护和清洗过程中,采用超纯水清洗设备内部,以去除残留的化学品和微粒,预防设备污染。

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